PVD 真空鍍膜知識(shí)
時(shí)間:2024-07-24??來源:管理員?? 作者:管理員
最近網(wǎng)上出現(xiàn)了創(chuàng)新PVD 真空鍍膜技術(shù)，其實(shí)真空?qǐng)D層技術(shù)在上個(gè)世紀(jì)六十年代就出現(xiàn)的。下面有關(guān)PVD 真空鍍膜技術(shù)的知識(shí)，小編帶你了解一下。
一、什么是PVD？
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。
目前常用的PVD有三種：真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍；它們的工作原理如下：
1、真鍍空膜：是在適當(dāng)?shù)膲簭?qiáng)下用電子束等熱源加熱材料使之蒸發(fā)，蒸發(fā)的原子或分子直接在工件表面形成沉積層；
2、濺射鍍膜：是不采用蒸發(fā)技術(shù)的物理氣相沉積方法，施鍍時(shí)，將工作室抽成真空，沖入氬氣做為工作氣體，并保持其壓力為0.13至1、33帕；
3、離子鍍：是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。
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